Með rannsóknum grafítdeiglutæknimanna kemur í ljós að hægt er að útbúa samhliða húðun með hæfilegri uppbyggingu og framúrskarandi hagnýtum hallaeiginleikum með því að nota kísilmálmduft sem aðal gegndreypingarefni og nota innfellingaraðferðina í lokuðu skálinni, þ.e. SiC umbreytingarlag SiC fínt lag Si-SiO2 flókið fasahúð. Með framlengingu á geymslutíma háhita er lagþykkt og SiO2 innihald ytra lagsins sem einkennist af SiC bætt við. Tengi á milli húðunar og undirlags er fyrst og fremst efnafræðilegt, sem hefur bæði vélræna tengingu og mikla tengingarstyrk. Oxunarþol húðuðu grafítdeiglunnar var prófuð. Prófunarniðurstöðurnar sýna að andoxunarhúðin sem er útbúin með innfellingaraðferðinni hefur framúrskarandi andoxunarafköst við 1100 gráður -1300 gráður. Stöku húðunin sem samanstendur af dýfa húðun eru aðallega SiC og Si3N4.
Niðurstöður andoxunarprófsins sýna að ein húð hefur framúrskarandi andoxunaráhrif, en vegna mismunar á stækkunarstuðlinum milli húðunar og undirlags er hitaáfallsþol lagsins lélegt og það lækkar einfaldlega. Við gerð samsettrar húðunar er innri húðin aðallega SiC og ytri húðin er MoSi2 og Al2O3, í sömu röð.
Andoxunaráhrifin eru ekki augljós á bilinu 1000 gráður -1300 gráður. Samkvæmt frammistöðuprófunaráhrifum grafíthúðunar getur andoxunarhúð grafítdeiglunnar, sem er útbúin með innfellingaraðferð, bætt oxunarþol grafítdeiglunnar verulega, dregið úr porosity grafítdeiglunnar og bætt beygjustyrk grafítdeiglunnar.